散射型超声波喷头

• 喷涂宽度：40-150mm
• 雾化粒径可选：15-60微米
• 雾化颗粒均匀，喷涂均匀性95%以上
• 旋风气流设计，涂覆复杂结构表面有更好包裹性
• 喷头不易堵塞，降低维护成本
• 柔和喷雾，减少飞溅及过喷浪费

散射型超声波喷头，是一种具有旋风圆锥状喷雾的超声波雾化喷头。其采用超声波雾化喷头技术，通过特殊的涡旋流道设计将载气变换成均匀的旋转气流，使超声雾化后的液雾呈旋风形式散射喷出，扩大了超声波喷头的喷涂面积的同时还可以对垂直或曲面等带有角度基材进行喷涂。

散射型超声波喷头典型的应用是半导体晶圆的光刻胶喷涂，将光刻胶喷涂在半导体晶圆上。由于散射型超声波喷头喷出的雾是旋转散射的，故此不仅可以均匀的在晶圆的平面上形成光刻胶薄膜，而且还可以在晶圆微型结构的侧壁及夹角处形成均匀包裹的光刻胶薄膜。除此之外，散射型超声波喷头还可应用于如薄膜太阳能电池喷涂、钙钛矿太阳能电池喷涂、AR增透减反射膜喷涂、隔热薄膜喷涂、超疏水涂层喷涂、PCB助焊剂喷涂等等。

  散射型超声波喷头的特点

• 喷涂宽度：40-150mm
• 涂层均匀：均匀度>95%
• 节省原料：原料利用率高达85%以上，4倍于传统二流体喷涂
• 涂层厚度控制精度高：可制备20纳米到数十微米的涂层，精确控制涂层厚度
• 微细雾化颗粒
• 雾化颗粒均匀
• 可实现间断性或连续性的喷涂
• 超低喷雾流量
• 不易堵塞喷头
• 防腐蚀型喷头
• 可实现高精度、高可控性的喷涂